控溫光催化反應儀CY-GHX-BC大容量試管的詳細資料：

控溫光催化反應儀CY-GHX-BC大容量試管

技術參數：

型號：CY-GHX-BC大容量控溫光化學反應儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續(xù)調節(jié)大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調節(jié)。

4.氙燈功率調節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調節(jié)。

5.金鹵燈功率調節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調節(jié)。

（二）d容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

（三）控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設有腳輪和底部排液閥。

多試管光化學反應儀產品配置：

控溫光催化反應儀CY-GHX-BC大容量試管

光催化反應可以分為兩類"降低能壘"(down hil1)和"升高能壘"(up hil1)反應。光催化氧化降解有機物屬于降低能壘反應，此類反應的△G<0，反應過程不可逆，這類反應中在光催化劑的作用下引發(fā)生成o2-、ho2 g="">0(△G=237 kJ/mo1)，此類反應將光能轉化為化學能。

基本信息

概括

隨著能源需求的持續(xù)增長，而儲備能源日益減少的情況下，開發(fā)新能源的研究已經迫在 光解水制氫系統(tǒng)實物對比眉睫。氫能，它作為二次能源，具有清潔、高效、安全、可貯存、可運輸等諸多優(yōu)點，被人們認為是一種的綠色能源。自1972年日本東京大學Fujishima A和Honda K兩位教授*報導TiO2單晶電極光催化分解水從而產生氫氣這一現(xiàn)象后，揭示了利用太陽光直接分解水制氫的可能性，開辟了利用太陽能光解水制氫的研究道路。隨著電極電解水向半導體光催化分解水制氫的多相光催化(heterogeneous photocatalysis)的演變和TiO2以外的光催化劑的相繼發(fā)現(xiàn)，興起了以光催化方法分解水制氫(簡稱光解水)的研究，并在光催化劑的合成、改性等方面取得較大進展。光解水制氫系統(tǒng)作為實驗研究的必要儀器，也起到了舉足輕重的作用，但在中國市場這個山寨和低劣仿制產品肆虐的大環(huán)境中，選擇實驗儀器還是需要慎之又慎的，否則會被無良廠家或經銷商欺騙，即浪費了有限的科研經費，又耽誤了寶貴的實驗時間。

優(yōu)勢特點

微量氣體在線收集及檢測系統(tǒng)即光解水制氫實驗系統(tǒng)，集成了光源，反應器及玻璃管道體系，取樣系統(tǒng)，氣體循環(huán)，真空環(huán)境等多種設計技術和制造技術，結合氣相色譜儀器，可以完成高能量密度光照、反應、氣體在線連續(xù)取樣、分析的科研工作，為我國的能源、材料等戰(zhàn)略性研究的不斷發(fā)展做出了重要貢獻。

光解水系統(tǒng)也稱光解水制氫系統(tǒng)或光解水產氫系統(tǒng)，是利用真空系統(tǒng)，在常壓下進行光照實驗，產生的氫氣利用氣體攪拌器在系統(tǒng)中攪拌均勻，可以在線取樣進入氣相色譜進行檢測， 保證了樣品取出到檢測過程的真空性和*性，減少測試數據的誤差，保證微量氫氣在線監(jiān)測的準確性。

光解水制氫系統(tǒng)具備以下技術特點:

占地面積小:系統(tǒng)總大小僅為680*450*980mm，放在實驗臺上或實驗室地上都可以，

為國內實驗室節(jié)省了很多寶貴的實驗空間。

在線檢測: 穩(wěn)定的氣體在線收集檢測系統(tǒng)，真空環(huán)境定量取樣，使檢測數據更加準確。

真空進樣:進樣系統(tǒng)與真空反應系統(tǒng)無縫連接，不但保證了進樣時的氣密性，還可以手

動進樣制作氫氣標樣的標準曲線。

操作便捷:一站式服務，即裝即用，進樣、取樣、檢測僅需搬動一個真空閥門，操作非

常簡單，zui大程度簡化實驗過程。

系統(tǒng)兼容性強:本系統(tǒng)不但可以進行光催化水制氫實驗，還可以兼容光催化電解水制氫、熱催化水制氫及常壓下二氧化碳制甲醇等適合真空系統(tǒng)在線檢測的催化實驗。 高氣密性閥體:AULTT系列真空系統(tǒng)(含光解水制氫系統(tǒng))，擁有*的航天技術"金屬與玻璃低溫焊接技術"，可保證系統(tǒng)氣密性達200小時以上。

檢測精度高:光解水制氫系統(tǒng)，測量精度達1PPM，適合極微量到常量氣體收集及檢測的各種實驗需求。

光化學反應儀主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品，測定反應動力學常數，測定量子產率等功能，廣泛應用化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等研究領域

光化學、干膜、曝光及顯影制程術語手冊1、Absorption 領受，吸入

指被領受物會進入主體的內部，是一種化學式的吸入步履。如光化反映中的光能領受，或板材與綠漆對溶劑的吸入等。還有一近似詞 Adsorption 則是指吸附而言，只附著在主體的概略，是一種物理式的親和吸附。

2、Actinic Light(or Intensity，or Radiation) 有用光

指用以完成光化反映各類光線中，其zui有用波長規(guī)模的光而言。例如在360～420 nm 波長規(guī)模的光，對偶氮棕片、淺顯吵嘴底片及重鉻酸鹽感光膜等，其等反映均zui快zui*且功用zui大，謂之有用光。

3、Acutance 解像尖銳度

是指各類由感光編制所取得的圖像，其線條邊緣的尖銳景象抽象 (Sharpness)，此與解像度 Resolution 不合。后者是指在必定寬度距離中，可以了了的顯像(Develope)解出若干良多多少組“線對”而言(Line Pair，系指一條線路及一個空間的組合)，普簡易稱只說解出機條“線”而已。

4、Adhesion Promotor 附出力增進劑

多指干膜中所添加的某些化學品，能促使其與銅面發(fā)生“化學鍵”，而增進其與底材間之附出力者皆謂之。

5、Binder 粘結劑

各類積層板中的接著樹脂部份，或干膜之阻劑中，所添加用以“成形”而不致太“散”的接著及組成劑類。

6、Blur Edge(Circle)恍惚邊帶，恍惚邊圈

多層板各內層孔環(huán)與孔位之間在做瞄準度搜檢時，可把持 X光透shi法為之。由于X光之光源與其機組均非平行光之機關，故所得圓墊(Pad)之減少回憶，其邊緣之解像其實不明銳了了，稱為 Blur Edge。

7、Break Point 出像點，顯像點

指制程中已有干膜貼附的“在制板”，于自動保送線顯像室上下噴液中遏制顯像時，抵達其完成沖洗而閃現(xiàn)出了了圖形的“旅程點”，謂之“Break Point”。所經歷過的沖洗旅程，以占顯像室長度的 50~75% 之間為好，如斯可以使剩下旅途中的清水沖洗，更能增強斷根殘膜的成果。

8、Carbon Arc Lamp 碳弧燈

晚期電路板底片的翻制或版膜的分娩時，為其曝光所用的光源之一，是在中心迫近的碳精棒之間，施加高電壓而發(fā)生弧光的拆卸。

9、Clean Room 無塵室、潔凈室

是一個遭到賣力經管及精采把握的房間，其溫度、濕度、壓力都可加以調劑，且氣氛中的塵埃及臭氣已予以消弭，為半導體及細線電路板分娩制造必需的景象抽象。淺顯“潔凈度”的表達，是以每“立方呎”的氣氛中，含有大于0.5μm以上的塵粒數目，做為分級的尺度，又為儉仆成本起見，常只在使命臺面上設置部門無塵的景象抽象，以嘗試必需的使命，稱 Clean Benches。

10、Collimated Light 平行光

以感光法遏制回憶轉移時，為添加底片與板面間，在圖案上的變形走樣起見，應采納平行光遏制曝光制程。這類平行光是經由屢次反射折射，而取得低熱量且近似平行的光源，稱為Collimated Light，為細線路建筑必需的裝備。由于垂直于板面的平行光，對板面或景象抽象中的少許塵埃都很是緩慢，常會忠誠的暗示在所曬出的回憶上，構成許多額定的漏洞錯誤，反不如淺顯散射或漫射光源可以也許自彼此補而消彌，故采納平行光時，必需還要無塵室的合營才行。此時底片與待曝光的板面之間，已無需再做抽真空的密接(Close Contact)，而可間接使用較嚴重的 Soft Contact或Off Contact了。

11、Conformity吻合性，fu貼性

完成零件壞配的板子， 為使整片板子外形遭到賣力的呵護起見，再以絕緣性的涂料予以封護涂裝，使有更好的信賴性。淺顯軍yong或較高條理的拆卸板，才會用到這類外形貼護層。

12、Declination Angle 斜射角

由光源所間接射下的光線，或經各類折射反射過程后，再行射下的光線中，凡閃現(xiàn)不垂直射在受光面上，而與“垂直法線”呈某一斜角者(即圖中之 a角)該斜角即稱 Declination Angle。當此斜光打在干膜阻劑邊緣所組成的“小孔相機”并經 Mylar 折光下，會泛起另外一“平行光”之半角(Collimation HalfAngle，CHA)。但凡“細線路”曝光所邃密精彩的“高平行度”的曝光機時，其所呈的“斜射角”應小于 1.5 度，其“平行半角”也須小于 1.5 度。

13、Definition 邊緣傳神度

在以感光法或印刷法遏制圖形或回憶轉移時，所取得的下一代圖案，其線路或各導體的邊緣，是不是能泛起齊直而又忠于原底片之外形，稱為“邊緣齊直性”或傳神度“Definition”。

14、Densitomer 透光度計

是一種對吵嘴底片之透光度(Dmin)或遮光度(Dmax)遏制丈量之儀器，以搜檢該底片之劣化水平若何。其經常使用的品牌如 X-Rite 369 等于。

15、Developer 顯像液，顯影液，顯像機

用以沖洗掉未感光聚合的膜層，而留下已感光聚合的阻劑層圖案，其所用的化學品溶液稱為顯像液,如干膜制程所用的碳酸鈉(1％)溶液等于。

16、Developing 顯像，顯影

是指感光回憶轉移過程中，由母片翻制子片時稱為顯影。但對下一代像片或干膜圖案的閃現(xiàn)作業(yè)，則應稱為“顯像”。既然是由底片上的“影”轉移成為板面的“像”，雖然就該當稱為“顯像”，而不宜再續(xù)稱底片階段的“顯影”，這是淺而易見的事理?？墒菢I(yè)界積非成是習用已久，一時興不茍且更正。日文則稱此為“現(xiàn)像”。

17、Diazo Film 偶氮棕片

是一種有棕色阻光膜的底片，為干膜回憶轉移時，在紫外光中公用的曝光用具(Phototool)。這類偶氮片即使在棕色的遮光區(qū),也能在“可見光”中透shi現(xiàn)實片下的板面景象抽象，比吵嘴底片要便當的多。

18、Dry Film 干膜

是一種做為電路板回憶轉移用的干性 gan光薄膜阻劑,還有 PE 及 PET 兩層皮膜將之夾心呵護?，F(xiàn)場施工時可將 PE 的隔離層撕掉，讓中心的感光阻劑膜壓貼在板子的銅面上,在經由底片感光后即可再撕掉 PET 的表護膜，遏制沖洗顯像而組成線路圖形的部門阻劑，進而可再嘗試蝕刻(內層)或電鍍(外層)制程，zui初在蝕銅及剝膜后，即取得有裸銅線路的板面。